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大陸晶圓廠加速囤積浸潤式深紫外(DUV)曝光機,引起美方關注。華盛頓智庫科技與國家治理能力中心(CTS)報告預估,截至今年首季,大陸已累計進口三四三台浸潤式DUV設備,其中多數可用於生產先進人工智慧(AI)晶片。報告呼籲美國及盟友全面禁止向大陸出口浸潤式DUV設備,並收緊備件供應及維修服務管制。
香港南華早報報導,CTS近日發布報告,由美國出口管制前官員布朗及曾任白宮和商務部科技政策顧問的卡漢共同撰寫。報告指,大陸晶片製造商無法取得艾司摩爾(ASML)最先進的極紫外(EUV)曝光機,因此高度依賴仍可獲准出口的浸潤式DUV設備生產先進半導體。
報告預估,二○一二年至今年第一季,陸資晶圓廠累計進口三四三台浸潤式DUV設備,其中約二七○台為ASML的NXT:1980i系統,另有廿八台NXT:2050i及NXT:2100i,以及約四十五台較舊機型;數字不包括外資企業進口量,也未扣除設備退役或再出口數量。
報告指出,大陸在荷蘭政府於二○二三年宣布限制更先進浸潤式DUV設備出口後加速採購,陸資晶圓廠二○二四年及二○二五年分別進口約九十台及八十九台NXT:1980i,兩年支出超過一三○億美元。
報告估計,在具備充足配套製造設備的大陸晶圓廠,一台NXT:1980i每年可能支援生產逾十萬顆昇騰910C等效晶片。
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[https://udn.com/news/story/6809/9794493?utm_source=yahoonews&utm_medium=yahoo]
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